-
1 metal-organic chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном выращивании очень тонких пленок полупроводников III-V.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > metal-organic chemical vapor deposition
-
2 metal-organic chemical vapor deposition
Большой англо-русский и русско-английский словарь > metal-organic chemical vapor deposition
-
3 metal-organic chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой (газовой) фазы металлоорганических соединенийАнгло-русский словарь технических терминов > metal-organic chemical vapor deposition
-
4 metal-organic chemical vapor deposition
1) Техника: химическое осаждение из газовой фазы металлоорганических соединений, химическое осаждение из паров металлоорганических соединений, химическое осаждение из паровой ( газовой) фазы металлоорганических соединений, химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений2) Макаров: (MOCVD) химическое осаждение из паров металлоорганических соединений3) Высокочастотная электроника: химическое осаждение металлоорганических соединений из паровой фазыУниверсальный англо-русский словарь > metal-organic chemical vapor deposition
-
5 - Metal Organic Chemical Vapor Deposition
Abbreviation: MOCVDУниверсальный русско-английский словарь > - Metal Organic Chemical Vapor Deposition
-
6 metal-organic chemical vapor deposition
Engineering: MOCVDУниверсальный русско-английский словарь > metal-organic chemical vapor deposition
-
7 metal-organic chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы методом разложения металлоорганических соединенийEnglish-Russian electronics dictionary > metal-organic chemical vapor deposition
-
8 metal-organic chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы методом разложения металлоорганических соединенийThe New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > metal-organic chemical vapor deposition
-
9 metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD)
Макаров: химическое осаждение из паров металлоорганических соединенийУниверсальный англо-русский словарь > metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD)
-
10 deposition
1) отложение; осаждение2) напыление, термовакуумное испарение•deposition on the mold — загрязнение пресс-формы-
aerosol deposition
-
alternate deposition
-
atmospheric deposition
-
carbon deposition
-
chemical deposition of metals
-
chemical deposition
-
chemical vapor deposition
-
dry deposition
-
electric arc deposition
-
electrochemical deposition
-
electroless deposition
-
electrolytic deposition
-
electron-beam deposition
-
epitaxial deposition
-
evaporation deposition
-
film deposition
-
flame deposition
-
frost deposition
-
gas deposition
-
glaze-ice and rime deposition
-
hot-wall chemical vapor deposition
-
ion-beam induced deposition
-
ion-beam deposition
-
ion-beam sputter deposition
-
metal deposition
-
metallization deposition
-
metal-organic chemical vapor deposition
-
metal-organic deposition
-
molecular-beam deposition
-
multistep deposition
-
photochemical vapor deposition
-
physical vapor deposition
-
plasma-enchanced deposition
-
plasma deposition
-
polycrystalline deposition
-
selective deposition
-
serigraphic deposition
-
snow deposition
-
spray/fusion deposition
-
sputtering deposition
-
sputter deposition
-
thin film deposition
-
turbulent deposition
-
vacuum deposition
-
vapor-phase deposition
-
vapor deposition
-
welding deposition
-
weld deposition
-
wet deposition -
11 deposition
1) осаждение•- axial vapor deposition
- cathodic sputter deposition
- cathodic sputtering deposition
- chemical deposition - directional deposition
- electrochemical deposition
- electroless deposition
- electrolytic deposition
- electron-beam deposition
- epitaxial deposition
- evaporative deposition
- film deposition
- gas deposition
- heteroepitaxial deposition
- homoepitaxial deposition
- inside vapor deposition
- ion deposition - masked deposition
- metal-organic chemical vapor deposition
- molecular-beam deposition
- multistep deposition
- normal incidence deposition
- outside vapor deposition
- planar epitaxial deposition
- plasma deposition
- pulse-laser deposition
- pyrolytic deposition
- reactive sputter deposition
- reactive sputtering deposition
- selective deposition
- serigraphic deposition
- sputter deposition
- sputtering deposition
- vacuum vapor deposition -
12 deposition
1) осаждение•- axial vapor deposition
- cathodic sputter deposition
- cathodic sputtering deposition
- chemical deposition
- chemical vapor deposition
- contact metal deposition
- directional deposition
- electrochemical deposition
- electroless deposition
- electrolytic deposition
- electron-beam deposition
- epitaxial deposition
- evaporative deposition
- film deposition
- gas deposition
- heteroepitaxial deposition
- homoepitaxial deposition
- inside vapor deposition
- ion deposition
- liquid-source chemical vapor deposition
- mask deposition
- masked deposition
- metal-organic chemical vapor deposition
- molecular-beam deposition
- multistep deposition
- normal incidence deposition
- outside vapor deposition
- planar epitaxial deposition
- plasma deposition
- pulse-laser deposition
- pyrolytic deposition
- reactive sputter deposition
- reactive sputtering deposition
- selective deposition
- serigraphic deposition
- sputter deposition
- sputtering deposition
- vacuum vapor depositionThe New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > deposition
-
13 deposition
осадження - blanket deposition
- chemical deposition
- chemical vapor deposition
- diffusional deposition
- dynamic deposition
- electrochemical deposition
- electroless deposition
- electrolythic deposition
- electron-beam deposition
- epitaxial deposition
- evaporation deposition
- evaporative deposition
- excimer-induced deposition
- film deposition
- gas deposition
- glow-discharge deposition
- high-rate deposition
- ion-beam induced deposition
- ion-beam deposition
- ionized-cluster beam deposition
- laser gold deposition
- laser-induced deposition
- laser photo-assisted deposition
- laser photochemical deposition
- localized electrochemical deposition LED
- localized electrochemical deposition
- low-pressure chemical vapor deposition LPCVD
- low-pressure chemical vapor deposition
- low-temperature vapor deposition
- metal deposition
- metall-organic deposition
- microcrystalline like deposition
- microwave plasma reactive vapor deposition
- molecular-beam deposition
- multiple-stage deposition
- oblique deposition
- open-tube deposition
- photochemical deposition
- photo-initiated deposition
- photolytic deposition
- photon-controlled deposition
- physical vapor deposition
- plasma-assisted laser deposition
- pyrolytic deposition
- serigraphic deposition
- sputter deposition
- static deposition
- thin-film deposition
- vacuum vapor deposition
- vapor-phasedeposition
- vapordepositionEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > deposition
-
14 MOCVD
metal-organic chemical vapor deposition - химическое осаждение из паров металлоорганических соединений; химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений -
15 MOCVD
= metal-organic chemical vapor depositionхимическое осаждение из-паровой фазы методом разложения металлоорганических соединений -
16 MOCVD
1) Техника: metal-organic chemical vapor deposition2) Оптика: metallorganic chemical vapor deposition3) Сокращение: - Metal Organic Chemical Vapor Deposition4) Солнечная энергия: химическое осаждение из паров металлорганических соединений5) Макаров: metallo-organic chemical vapor deposition -
17 химическое осаждение из паров металлоорганических соединений
1) Engineering: metal-organic chemical vapor deposition2) Makarov: metal-organic chemical vapor deposition( MOCVD)Универсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паров металлоорганических соединений
-
18 химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
Engineering: (газовой) metal-organic chemical vapor deposition, metal-organic chemical vapor depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
-
19 химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном выращивании очень тонких пленок полупроводников III-V.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
-
20 MOCVD
сокр. [metal-organic chemical vapor deposition] химическое осаждение из паровой [газовой] фазы металлоорганических соединений
- 1
- 2
См. также в других словарях:
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia
Metalorganic chemical vapor deposition — (MOCVD) is a chemical vapor deposition process that uses metalorganic source gases. For instance, MOCVD may use tantalum ethoxide (Ta(OC 2H 5) 5), to create tantalum pentoxide (Ta 2O 5), or Tetrakis Dimethyl Amino Titanium(IV) (TDMAT) to create… … Wikipedia
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical beam epitaxy — (CBE) forms an important class of deposition techniques for semiconductor layer systems, especially III V semiconductor systems. This form of epitaxial growth is performed in an ultrahigh vacuum system. The reactants are in the form of molecular… … Wikipedia
Metal matrix composite — A metal matrix composite (MMC) is composite material with at least two constituent parts, one being a metal. The other material may be a different metal or another material, such as a ceramic or organic compound. When at least three materials are … Wikipedia
Thin-film deposition — is any technique for depositing a thin film of material onto a substrate or onto previously deposited layers. Thin is a relative term, but most deposition techniques allow layer thickness to be controlled within a few tens of nanometers, and some … Wikipedia
Organic solar cell — An organic photovoltaic cell (OPVC) is a photovoltaic cell that uses organic electronics a branch of electronics that deals with conductive organic polymers or small organic molecules[1] for light absorption and charge transport. The plastic… … Wikipedia
Organic light-emitting diode — Demonstration of a flexible OLED device A green emitting OLED device An … Wikipedia